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行業新聞

PECVD技術在柔性光學膜上的應用

| CVD光學多層膜的應用


光學多層膜的需要:

● 防反射膜

● 光學調整膜(IM膜),等等


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防反射


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光學調整膜



| PECVD卷繞鍍膜機


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PECVD原理圖


PECVD 法的特長:

● 高速鍍膜

● 低溫鍍膜


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Twin roller as electrodes(雙電極輥)

● 沒有電極被污染⇒確保長時間穩定生產

● 可有效利用原料氣體

● 減低鍍膜腔體的污染


高鍍膜速度

● 300nm・m/min (阻隔膜鍍膜條件)

● 光學膜用途可高速化


Magnetron discharge

● 用此方式可使薄膜寬度方向形成均一的等離子。

● 可在膜寬度方向不斷拓寬(350~550~700~1300~)

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模式圖


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放電狀態


| 鍍膜的要件


  1. 高折射膜和低折射膜

  2. 均一的光學膜分布

  3. 生產階段的技術,生產性(成本)

  4. 附著力,穩定性,等等


鍍膜的要件:高折射膜和低折射膜


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高折射率:SiN鍍膜

● 使用研發機W35-350C(基材寬350㎜)

● SiH4:15-200ml/min+N2:150-1000ml/min


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低折射率:SiO鍍膜

● 開發機W35-350C(使用基材寬度350㎜)

● HMDSO+O2


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鍍膜的要件:光學膜厚均一分布(SiOx為例)


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鍍膜的重點:量產階段的技術,生產效率(成本)


1. 量產機業績


● 1.3m寬幅量產機目前在日本2家公司使用并生產中。

● 研發機也在日本,韓國,中國的各大企業中被廣泛使用。


2.鍍膜成本

● 比磁控濺射快,可高速鍍膜

● 化學反應

● 從原料直接轉化成皮膜。

● 因不需要磁控濺射靶,所以鍍膜成本低。


對鍍膜成本構成感興趣的話請另行咨詢神鋼。


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W35 CVD roll coater


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膜寬度方向擴張的沿革


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在日本某公司無塵室使用案例


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量產機裝置的斷面模式圖

來源: unima薄膜新材網

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點擊次數:  更新時間:2016-12-23 15:36:13  【打印此頁】  【關閉

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